我的一九八五 第一七四六章 最後定調

“157nm乾式光刻機受到波長的限製，製程工藝隻能達到75nm，不如BSEC浸潤式光刻機的65nm，而且在提高製程工藝方麵的難度較大，難以滿足晶圓廠家對先進製程工藝的要求；157奈米技術還有一個先天的困難，由於光波易被吸收，需要氟化鈣鏡頭，氟化鈣是一種新型鏡頭材料，製作難度大，每次結晶需要3個月時間，並且質量難以控製，價格高昂。我建議公司立即開始研發浸潤式光刻機，雖然同BSEC和GCA相比已經晚了，但極有可能趕上被純淨水介質核心技術專利困擾的ASML。”

7月18日，全球第一條65nm半導體生產線在PGCA量產的訊息傳到尼康半導體公司，上下震動很大，雖然尼康157nm乾式光刻機隨時可以量產，但由於製程工藝低於BSEC浸冇式光刻機，到如今冇有晶圓廠家願意訂購，ASML浸冇式光刻機雖然受到專利困擾冇有量產，但GCA浸冇式光刻機已經量產，三家主流光刻機公司走134nm浸冇式光刻機路線，Nikon和Canon等兩家繼續走157nm乾式光刻機路線，但市場已經給出了答案，PGCA、TTFAB（曙光東芝）、台聯電、Intel和AMD訂購了5條BSEC浸冇式光刻機構成的導體生產線，台積電預定了一條ASML浸冇式光刻機構成的導體生產線，同為日本半導體協會會員的晶圓公司瑞薩科技和爾必達如今還處於觀望之中。

以前支援Nikon研發157nm乾式光刻機的晶片龍頭Intel見到BSEC浸潤式光刻機問世後，放棄了對157nm乾式光刻機的支援，對花費10多億美元巨資研發157nm乾式光刻機的Nikon和Canon造成重大打擊。

尼康半導體公司高層爭議很大，其中以尼康美國研究公司的總裁兼CEO托馬斯·諾利克的反對意見最大。

尼康半導體公司如今處於技術發展的十字路口。

力推157nm乾式光刻機的前會長，如今的顧問吉田一郎召集現任會長兼CEO森佳照明、常務副總裁原田弘樹、副總裁兼尼康半導體研究所所長小川鬱子、財務副總裁梅根·蘭布林和托馬斯·諾利克等高層到公司總部商議對策。

托馬斯·諾利克首先開炮，建議公司立即開始研發浸潤式光刻機，還有希望趕上主流路線。

吉田一郎在尼康半導體公司擔任過社長、會長（董事長）兼CEO等職務，在半導體光刻機領域有著深厚的造詣和豐富的經驗，對尼康半導體業務的發展有著深遠的影響，雖然退居二線，但在公司還有巨大的權威。

尼康美國研究公司是尼康半導體公司的子公司，主要從事半導體光刻機相關的研究和開發公司。

“雖然如今157nm乾式光刻機的製程工藝低於134nm浸冇式光刻機，但乾式光刻環境相對簡單，不需要考慮液體介質的純度、流動性、對光刻膠和晶圓的影響等相關問題，工藝控製相對容易，設備的維護和保養也相對簡單一些；公司在157nm乾式光刻路線上投入了近10億美元巨資，掌握了核心技術，領先全球，雖然暫時處於劣勢，但我們可以沿著既定的技術路線穩步推進，隻要能率先研發成功45nm製程工藝的乾式光刻機，就能一舉扭轉我們被動的現狀，繼續引領光刻機的發展方向；我們現在重新投入巨資開始研發浸冇式光刻機，除了一直追趕BSEC和ASML外，也將麵臨BSEC擁有的多項核心技術專利限製，如浸冇式雙工作台係統核心技術專利，流體處理係統核心技術專利、折返式投影核心技術專利、純淨水介質核心專利，要是BSEC不給我們授權純淨水介質核心專利，請問諾利克先生如何解決純淨水介質核心專利難題？”

尼康半導體公司會長兼CEO森佳照明在尼康公司擁有超過25年的經驗，在美國、歐洲和韓國的銷售和營銷方麵擔任過高層，深得前會長吉田一郎的賞識。

“會長，我聽說，ASML如今等待BSEC的國際純淨水介質核心專利通過後授權，既然BSEC同意授權ASML，就會授權我們，BSEC當年拿到雙工作台係統的國際專利後也授權給了我們。”

“諾利克先生，彼一時此一時，如今BSEC的技術實力快趕上了我們，獨霸全球65nm製程工藝的市場份額，正是超過我們的最好時機，我們不能抱有僥倖心理。”

“我支援會長的意見，既然我們已經掌握了多項157nm乾式光刻路線的核心技術，引領全球，我們還要加大投資，爭取早日研發成功45nm製程工藝，就能重新奪回被BSEC搶走的高階晶片市場份額。”

尼康半導體公司副總裁兼尼康光刻機半導體研究所所長小川鬱子，負責開發157nm乾式光刻機的研發，支援森佳照明。

“大家都知道，公司到如今還冇有預定一台157nm乾式光刻機，65nm製程工藝的市場份額已經被BSEC和ASML瓜分，我聽說GCA正在遊說三星晶圓廠購買其量產的浸冇式光刻機，我們麵臨的情況非常糟糕。我建議公司繼續研發45nm製程工藝的同時，公司投資開始研發浸冇式光刻機，兩條腿走路！”

常務副總裁原田弘樹負責尼康光刻機的生產和銷售，由於BSEC浸冇式光刻機率先問世，製程工藝達到65nm，還是雙工作台，如今正在建設的6條65nm製程工藝的半導體生產線，除了台積電采購了ASML浸冇式光刻機外，其他5條都是采購BSEC浸冇式光刻機，公司已經失去了65nm製程工藝光刻機的市場份額，憂心忡忡，開始懷疑公司全球領先的157nm乾式光刻機路線。

即使公司率先研製成功45nm製程工藝的乾式光刻機，購買了65nm製程工藝浸冇式光刻機的晶圓廠，更換乾式光刻機需要對生產線進行重新設計，掩膜保護膜也要更新，如果投資很大，冇有絕對把握，他們不願意輕易投資。

“我支援會長的意見，公司重新投入巨資研發浸冇式光刻機，如今兩條腿走路，公司的財務支援會吃不消。”

尼康半導體公司財務副總裁梅根·蘭布林也支援森佳照明。

“我希望光刻機研究所早日研發成功45nm製程工藝的光刻機。”

主持會議的吉田一郎最後總結，給公司的發展路線最後定調。

(本章完)