我的一九八五 第一六六七章 浸冇式光刻機麵世

第一六六七章浸冇式光刻機麵世

“恭喜鄧院長、錢所長，我代表京城半導體集團獎勵浸冇式光刻機研發團隊1000萬元，所有人晉升1級工資，推薦錢所長申請工程院院士。”

啪啪……

6月17日，孫健在朱儁鬆、喻學強、魏建國、錢國培、歐陽明、陳偉長、夏季常等人的陪同下，來到京城半導體集團（BSEC）光刻機研究院會議室，笑容滿麵的會見院長鄧國輝和所長錢富強領導的浸冇式光刻機研發團隊的147名人員。

眾人喜笑顏開，等待這一天已經4年了。

原常務副總經理李昌傑擔任PGCA半導體公司中方總經理後，副總經理錢國培擔任常務副總經理。

BSEC是淘寶控股公司控股的高科技上市公司，淘寶控股（京城）公司總經理朱儁鬆和副總經理喻學強擔任BSEC的董事。

193nm波長的世界性光學難題困擾了光刻機行業近10年，為了攻克這道難題，GCA選擇了技術最複雜的EUV(13.5nm)技術路線，同時也冇有放棄157nm鐳射器路線；Nikon、Canon、SVG和ASML選擇157nm鐳射器路線。

1999年7月，BSEC研究院院長鄧國輝院士和光刻機光學研究所所長錢富強研究員率領光源研究所的147名研發人員，在孫健的“點撥”下，經過近3年的潛心研究，終於研製成功浸冇式光刻係統技術，ArF鐳射器發射的193nm光源通過純淨水的折射，得到了波長134nm的光源，解決了業界遇到的193nm波長的世界級難題，並生產了一台65nm製程工藝的浸冇式試驗機，避免刺激美國，秘而不宣！

孫健當時告訴大家，因試驗機所用的光學係統是委托CarlZeissAG生產的，冇有自主知識產權，因瓦森納協定的限製，極有可能被封鎖，等自己研製的光學係統符合要求後，再申請公司發明專利。

當時隻能委屈錢富強和147名研發人員。

“多謝董事長！”

一晃10年過去，錢富強已經55歲，兩鬢斑白，由衷的表示感謝，當年為了賺錢，停薪留職下海，被孫董事長派人請回，擔任光源研究所副所長，晉升研究員，擔任光源研究所所長，一路走來，事業順利，但冇有想過晉升院士，他和鄧院長都明白孫董事長雪藏浸冇式光刻機的苦衷，美西方國家一直利用瓦森納協定對國內高科技企業進行技術封鎖和打壓。

BSEC的光刻機技術低GCA一代，要麵子的美國人不會打壓，但一旦超過GCA，極有可能麵臨製裁。

全球光刻機行業被193nm波長的世界性難題擋住近十年，但對BSEC來說就是一個千載難遇的發展機遇，不然很難趕上GCA、Nikon、ASML和Canon。

如今全球5家光刻機公司GCA、Nikon、ASML、Canon和BSEC雖然都隻能生產90nm製程工藝的光刻機，但技術實力還是有很大的差距。

2001年12月，EUVLLC項目結束，成功解決了EUV光刻機的光學係統（多層膜反射鏡）和光源（鐳射等離子體技術）等核心難題，為GCA後續商業化奠定了技術基礎。

2002年1月，GCAEUC光刻機股份公司成立，註冊資本金50億美元，13.5nm波長的EUV鐳射器一旦成功，研發成功EUV光刻機隻是時間問題，光刻機光源就冇有了技術瓶頸，光刻機的發展一馬平川，GCA被業界公認一枝獨秀。

Nikon和Canon投入巨資研發157nm鐳射器，到如今還冇有訊息。

2001年6月，ASML投資10億美元併購SVG後，SVG擁有157nm鐳射的反折射鏡頭技術，ASML的技術實力大增，研發157nm鐳射器的同時，2002年8月，采納林本堅博士提出的“浸潤原理”，投入巨資，同台積電合作，聯合開發浸冇式光刻機。

ASML采用兩條腿走路。

ASML擁有全球第二款雙工作台係統，技術實力僅次於GCA和Nikon，一旦研發成功134nm波長的浸冇式光刻機，技術實力就會超過Nikon。

雖然浸入式光刻機的構思非常巧妙，但同EUC光刻機相比，從工程角度看，並不難完成，

鄧國輝和錢富強都擔心ASML趕在BSEC的前麵釋出研發成功浸冇式光刻機，但一想到孫董事長旗下公司是ASML的第二大股東，就放下心來。

5月28日，GCAEUV光刻機公司對外公開宣佈，經過二年多的潛心研發，EUV光刻機的核心部件EUV鐳射器研製成功，並通過專家組的鑒定，並申請了國際發明專利，並向媒體展示了一台EUV鐳射器和一台EUV光刻機原型機。

EUV鐳射器獲取EUV光源的辦法是將二氧化碳鐳射照射在錫等靶材上，激發出13.5nm的光子，作為光刻機光源。

EUV鐳射器和EUV光刻機原型機在全球引起極大的轟動，阻礙全球半導體產業發展的技術瓶頸被美國科學家攻克。

GCA同時宣佈，GCAEUV光刻機的量產還需要很長的時間。

得到訊息的魏建國、鄧國輝和錢富強都知道BSEC公開推出浸冇式光刻機不遠了。

工程院院士候選人不受理個人申請，需要通過院士或有關學術團體提名，也可以同時通過以上兩種渠道提名。

錢富強研究員在全球頂尖光刻機期刊上發表了30多篇專業論文，在全球光刻機光源行業具有極高的威望，主持研發成功的浸冇式光刻機是全球首創，國際領先技術，具有百億美元的市場價值。

京城半導體集團擁有4名光刻機專業頂尖的院士。

鄧國輝院士擔任光刻機協會會長，還擔任國家光刻機專家組主任委員，歐陽明院士、陳偉長院士和夏季常院士擔任國家光刻機專家組副主任委員，錢富強研究員擔任光刻機協會秘書長。

浸冇式光刻機經過專家組鑒定隻是走程式。

“鄧總，馬上組織光刻機專家組成員鑒定，鑒定通過後，申請公司發明專利。”

“好的，董事長！”

魏建國知道浸冇式光刻機的來龍去脈，一直保守秘密。

BSEC從1999年8月開始立項，投資1億元，鄧國輝和錢富強帶領光刻機光源研究所，靜下心來開始研發EUV，雖然快4年過去，前後花費3.6億元，還冇有研發成功EUV，但光源研究所的科研成果豐碩，申請了165項公司發明專利（其中4項核心發明專利），研發成功具有自主知識產權的浸冇式光刻機所需的光學係統，並生產了3台浸冇式光刻機試驗機，隻等孫董事長一聲令下，BSEC隨時可以量產。

(本章完)