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特種兵:開局被父親拉回家領證 第2173章

作者:佚名 分類:純愛耽美 更新時間:2026-03-16 19:26:11

台下響起一片附和的低語聲,顯然,這兩位專家提出的,正是橫亙在所有人麵前最現實、最殘酷的障礙。

這時,一位坐在前排、氣質沉穩的海外歸國學者站了起來,他看向陳軍,語氣帶著探究:"陳院長,我們都知道形勢危急,也都有為國效力的決心。但是,如此龐大的係統工程,必須有一個清晰、可行、尤其是統一的技術路線。您能否為我們大致闡述一下,我們這次研發,究竟打算采用何種思路和技術路徑,來攻克這些世界級的難題?"

這個問題,問出了所有人心中的最大疑問。所有人都屏息凝神,目光聚焦在陳軍身上。

陳軍臉上冇有任何被難住的表情,他甚至冇有立刻開口回答。他隻是微微點了點頭,然後不慌不忙地拿起那個黑色的U盤,俯身將其插入講台側麵的介麵。

"各位的問題都非常關鍵。"他一邊操作著電腦,一邊平靜地說,"關於資金,關於材料,關於技術路徑......大家所有的疑問,或許都可以在這裡找到答案。"

下一秒,他身後的巨大投影螢幕亮了起來。一行簡潔而無比震撼的標題,映入所有人的眼簾——《4奈米晶片全流程自主設計與製造方案》。

"4奈米?!"台下瞬間響起一片倒吸冷氣的聲音。這在當時,是國際最頂尖的製程工藝!

然而,真正的震撼,纔剛剛開始。陳軍點開了下一頁。冇有冗長的前言,冇有空洞的口號,PPT直接進入了最核心、最硬核的技術細節。一頁頁翻過,上麵是密密麻麻的圖表、公式、結構分解圖、工藝流程圖......從矽礦石的精選、提純方法和催化劑配比,到單晶矽錠的拉製工藝參數控製;從光刻機核心光源係統、物鏡組的光路設計圖紙、反光鏡的曲麵函數,到掩膜版的設計規則、計算光刻的演算法模型;從矽片切割的厚度、平整度要求,到氧化、擴散、薄膜沉積、離子注入、刻蝕、拋光......每一道工序的詳細步驟、溫度、壓力、時間、化學試劑濃度等成千上萬個參數,都標註得清清楚楚。甚至連最後晶片的封裝形式、引腳定義、散熱方案、測試向量,都有著極其詳儘的規定。

這根本不是一份普通的項目計劃書,這簡直就像是一套從天而降、完整無缺的晶片製造"天書"和"施工圖紙"!其細緻和深入的程度,超出了在場所有專家的認知極限。

"這......這是......"馬驥院士不知何時已經站了起來,不由自主地走到螢幕前,幾乎把臉貼了上去,他指著光刻機物鏡組的一個複雜的光路折射結構,手指因為極度的激動而微微顫抖,"這個非球麵鏡組的組合方式......利用多重衍射來補償像差......我的天!我......我研究了光物理三十多年,也構思過幾種改進方案,但......但從來冇敢想過如此大膽、如此精妙絕倫的設計!這......這思路至少領先目前ASML最先進的產品一代以上!"

另一邊的錢建國教授也早已失態,他一把抓下自己的老花鏡,用力揉了揉眼睛,再次死死盯住螢幕上關於晶片內部電路佈局和冗餘度設計的部分,聲音都變了調:"這裡!你們看這裡!利用這種特殊的冗餘電路佈局,配合時序優化演算法,竟然能從根本上規避高頻信號下的串擾和延遲問題!這是困擾了整個業界十幾年的噩夢啊!這......這到底是怎麼想出來的?!"

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