是那種暗暗的標記,自己人能夠看得出來,但外界攻擊的人看不出來。
可是蘇修的技術仔仔細細的觀察了好幾遍,都冇有發現類似的痕跡,由此可
見,對方是真的冇有這種心思。
而最後還是蘇修說出了自己的想法。
“要我說,DL公司是一個十分驕傲的公司,他們不可能想著自已的內網居然會
被外人攻破,因此這些錯誤的,估計真的就是他們盜來了,或者自己研究出的一些
錯誤的結果了。”
大家聽聞此言都點了點頭。
“那就這樣吧,大家把這些技術和項目成果分彆整理一下,然後篩選出來,目
國內最需要的幾個,先進行研究和確認真假性,如果可以的話,儘早將技術成果應
用到具體領域!
楊老最後直接拍了板,而大家都是點了點頭,都同意了這一點
蘇修也在這裡幫著忙,畢竟他對於技術領域也有一些自己的見解.
而很快大家就將其分類整理,最後總結出了幾項國內最急需的技術。
“這是光刻機關鍵結構圖紙,以及具體結構的具體設計製造方法,我覺得應該放
在第一點,畢竟國內的光刻機確實需要儘快加緊了。”
一位學術大佬看向大家,而大家也都是紛紛點頭同意這一點。
畢竟光刻機確實是十分重要的技術存在。
它是半導體製造領域王者級彆的存在,裡麵幾乎蘊含著目前人類最尖端的科技
技術在裡麵。
它最大的作用就是能夠把電子器件的圖形模式轉移到矽片上麵,從而大量穩定
科學精準的製造半導體器件。
對於光刻機的研究,國內其實也已經有了具體的成果,但隻不過效能方麵和國
際頂尖的光刻機有差距。
光刻機最重要的部件,主要有:掩模(Mask)光源(LightSource),投影光
學係統,遮光板,矽片,台座係統,曝光控製係統,自動對準係統這些構成。
而目前,國內在前幾個部件的方麵已經冇有任何問題了,製造出來的成品效果
已經能夠趕得上國外的技術了。
唯一欠缺的主要是之後的台座係統,曝光控製係統,還有0.8自動對準係統這三
個係統部件,有著差距。
而現在,這份獲取來的技術已經成功打破了這份差距。
“之所以選光刻機這項技術作為最先研究的方向之一,也是因為咱們目前正在進
行的機動裝甲研究項目裡麵,關於主控晶片以及各個方向的輔助控製晶片,自前都
不太能夠達到預期成果。
所以得有著這項技術才能夠讓我們進行自研製造。”
蘇修又補充的解釋了一下,而大家紛紛點頭。
蘇修這邊也在一直抓著機動裝甲項目組的研究進度,而根據他與多個項目組的
溝通,現在機動裝甲研究組的成果已經大大向前推進了。
各個部件的初步構建已經完成,唯一需要頭疼的就是控製晶片
晶
道
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